Главная / Каталог продукции / Для минеральных поверхностей / Грунтовки / Grundierung sv | primer hf | грунтовка глубокого действия на основе растворителя
Grundierung SV | Primer HF | Грунтовка глубого действия на основе растворителя
Грунтовка глубого действия на основе растворителя
Область применения:
- Осыпающиеся минеральные основания, обладающие впитывающей способностью
- Фиброцементные плиты, не имеющие покрытия
Характеристики:
-
Оказывает укрепляющее действие
-
Выравнивание впитывающей способности
-
Гидрофобизирующее действие
-
Щелочестойкость
-
Высокая проникающая способность
-
Содержит растворители
Подготовка к работе:
Требования к основанию:
-
Основание должно быть сухим, чистым, без пыли и трещин (допускаются волосяные трещины)
-
Не должно быть высолов
Нанесение:
Условия нанесения:
-
Температура материала, окружающей среды и обрабатываемой поверхности: мин. +5 °C, макс. +25 °C
-
Перед применением взболтать
-
Равномерно нанести материал кистью или распылением
-
При необходимости повторить процесс
Инструкции по нанесению:
-
Не применять инструмент с искусственным ворсом.
-
Избегать образования излишка материала на поверхности.
-
Избегать образования глянцевых слоев.
-
Строительные дефекты (например, трещины, потрескавшиеся швы, дефектные примыкания, капиллярный подъем влаги) устранить до начала работ с продуктом.
-
Граничащие элементы конструкции и материалы, не предназначенные для обработки данным продуктом, защитить от контакта с ним соответствующим образом.
Сушка:
-
Более высокие температуры сокращают, более низкие увеличивают указанные временные значения.
Рабочее оборудование / очистка:
-
Распылительное оборудование низкого давления, кисть флейцевая
-
После использования и перед длительными перерывами очистить инструмент растворителем Verdünnung V 101
Хранение / срок хранения:
-
Хранить в оригинальной закрытой упаковке в сухом, прохладном, защищенном от замерзания месте. Срок хранения не менее 12 месяцев.
Расход:
~ 0,1 - 0,2 л/м² в зависимости от основания
-
Точный расход определить путем пробного нанесения на образец поверхности достаточной площади.